1 0 0 0 OA 光リソグラフィの解像度の限界解像度を超えるナノインプリント技術開発
- 著者
- 井上 壮一 櫻井 淳平
- 出版者
- 公益社団法人 精密工学会
- 雑誌
- 精密工学会誌 (ISSN:09120289)
- 巻号頁・発行日
- vol.86, no.4, pp.239-242, 2020-04-05 (Released:2020-04-05)
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キヤノンには、次世代半導体製造装置がある。実用化は困難と思われていたナノインプリントもなんとかなりそう。
キオクシア(東芝メモリ)が開発を継続してくれている。
光リソグラフィの解像度の限界解像度
を超えるナノインプリント技術開発
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