1 0 0 0 OA 微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善
- 著者
- 倉知 郁生 Ikuo Kurachi
- 出版者
- 東京理科大学
- 巻号頁・発行日
- 2016-03-18
2015
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@reinon_68000 とはいえ、ゲート酸化膜にソフトブレイクダウンがあっても同じ症状になるので、本当にソフトエラーか、の故障解析は大変なんですよね。。。
フラッシュメモリ開発の方の論文
https://t.co/NbJqsuQrBl