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ヒドロシランによる有機金属錯体の脱酸素還元反応-触媒的CO水素化反応への有機金属化学からのアプローチ-
著者
穐田 宗隆
出版者
公益社団法人 日本化学会
雑誌
日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry
(
ISSN:03694577
)
巻号頁・発行日
vol.1998, no.12, pp.783-793, 1998-12-10
参考文献数
36
触媒的CO水素化反応の素反応過程を遷移金属モデル錯体上で再現することを目的として, ヒドロシランによる有機金属錯体の還元反応を研究した. ヒドロシラン類はそのH-Si結合が水素のH-H結合に似た反応性を示すのに加えて, ケイ素部分が酸素官能基に対して高い親和性を示して脱酸素還元反応が進行することが期待される. 研究の結果, Pichler-Schulz機構を経る増炭反応, Fischer-Tropsch機構を経るメタン化など, 触媒的CO水素化反応に対して提案されている素反応 (CO還元, C-Cカップリングなど) を有機金属錯体上で再現することに成功した.
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https://ci.nii.ac.jp/naid/10001981929
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