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1 0 0 0 レーザーアブレーション法を用いた環境半導体β-FeSi_2薄膜の低温成長

著者
永元 達也 吉武 剛 永山 邦仁
出版者
九州大学
雑誌
九州大学工学集報 (ISSN:00232718)
巻号頁・発行日
vol.72, no.2, pp.95-100, 1999-03

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