Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
文献ランキング
合計
1ヶ月間
1週間
1日間
文献カレンダー
新着文献
すべて
2 Users
5 Users
10 Users
新着投稿
Yahoo!知恵袋
レファレンス協同データベース
教えて!goo
はてなブックマーク
OKWave
Twitter
Wikipedia
検索
ウェブ検索
ニュース検索
ホーム
文献詳細
2
0
0
0
(4)ディジタル画像のわな : 被曝関連(ワークショップ-より良い撮影技術を求めて(その97)ディジタル化のわな-問題提起-,テーマA:一般「ディジタル化のわな」)
著者
水谷 宏
出版者
公益社団法人 日本放射線技術学会
雑誌
放射線撮影分科会誌
(
ISSN:1345322X
)
巻号頁・発行日
vol.53, pp.22-24, 2009
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
外部データベース (DOI)
Google Scholar
Twitter
(2 users, 4 posts, 1 favorites)
デジタル撮影の被曝についてチョット検索してみました。これは線量の問題だけでなく技師の技術的な点を指摘しています。http://t.co/eSfuQcPH @ishikawakz @osaka_irouren
デジタル撮影の被曝についてチョット検索してみました。これは線量の問題だけでなく技師の技術的な点を指摘しています。http://t.co/eSfuQcPH @ishikawakz @osaka_irouren
収集済み URL リスト
https://ci.nii.ac.jp/els/110007619132.pdf?id=ART0009436965&type=pdf&lang=jp&host=cinii&order_no=&ppv_type=0&lang_sw=&no=1350298054&cp=
(2)
https://ci.nii.ac.jp/naid/110007619132
(2)