著者

新井 英夫

出版者

THE SOCIETY OF PHOTOGRAPHY AND IMAGING OF JAPAN

雑誌

日本写真学会誌 (ISSN:03695662)

巻号頁・発行日

vol.76, no.1, pp.8-10, 2013

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東日本大震災(2011)後,津波被災写真に著しいカビ被害が発生していた.筆者は,文化財の保存に活用している水溶性・非蒸散性の防菌防黴剤 ホクサイドR-150(北興産業(株))の応用を考えた.ホクサイドR-150は,クロロメチルイソチアゾリノンとメチルイソチアゾリノンの混合剤である.本実験は,被災写真をホクサイドR-150 1.0%を含有する保存環境除菌剤JE-120に浸漬処理するにあたって,写真材質への影響に留意して防カビ効果を検討した.<br>