Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
文献ランキング
合計
1ヶ月間
1週間
1日間
文献カレンダー
新着文献
すべて
2 Users
5 Users
10 Users
新着投稿
Yahoo!知恵袋
レファレンス協同データベース
教えて!goo
はてなブックマーク
OKWave
Twitter
Wikipedia
検索
ウェブ検索
ニュース検索
ホーム
文献詳細
1
0
0
0
IR
機能水を用いたシリコン基板の新しい洗浄技術に関する研究
著者
森田 博志
出版者
東北大学
巻号頁・発行日
2000
課程
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
外部データベース (DOI)
Google Scholar
Twitter
(1 users, 1 posts, 0 favorites)
@22Ilias22 一応そっちは https://t.co/UZqURExn0G https://t.co/LsZWrfIHyZ 辺りで。書きぶりからすると化学反応より超音波洗浄時の物理反応な気がするんだけど。
収集済み URL リスト
https://ci.nii.ac.jp/naid/500000198846
(1)