文献一覧: 末益崇 (著者) - Ceek.jp Altmetrics

1 0 0 0 熱反応堆積法を利用した赤外発光β-FeSi2球及び高移動度β-FeSi2膜の作製:高温アニールによる特性改善 (〈特集〉環境半導体)

著者: 末益崇高倉健一郎飯倉祐介
出版者: 日本材料科学会
雑誌: 材料科学 (ISSN:03883930)
巻号頁・発行日: vol.37, no.1, pp.16-20, 2000

2014-11-27 22:37:16
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https://ci.nii.ac.jp/naid/40004325357

1 0 0 0 OA マイクロチャネルエピタキシーによる赤外線受光用大粒径鉄シリサイド膜

著者: 末益崇
巻号頁・発行日: 2012

科学研究費助成事業(科学研究費補助金)研究成果報告書:基盤研究(B)2009-2011

2013-03-20 08:31:45
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http://hdl.handle.net/2241/118710