著者

湯野 裕高 中山 隆史

出版者

公益社団法人 日本表面科学会

雑誌

表面科学講演大会講演要旨集 第27回表面科学講演大会

巻号頁・発行日

pp.235, 2007 (Released:2007-11-01)

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金属と半導体を接合した場合、界面にショットキー障壁が現れることが知られているが、最近の実験でこの界面にAlなどの極薄偏析層を形成すると、金属の仕事関数が偏析層で大きく変調されるという報告がなされている。しかしその起源は明らかでない。本研究では、第一原理計算を用いて、Au/HfO2界面にAl偏析層が出現した場合の仕事関数の変化の考察を行った。