著者

李 度鎭 臼井 健二 松本 宏 石塚 皓造

出版者

日本雑草学会

雑誌

雑草研究 (ISSN:0372798X)

巻号頁・発行日

vol.37, no.4, pp.309-316, 1992-12-24

被引用文献数

4

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発芽直後のイネ幼苗の生育に対するジメピペレートと、作用機作の異なる7剤の除草剤との混合処理による相互作用について検討した。土壌による除草剤の不活性化などの要因を排除するために水耕法を用いて根部処理し、イネの地上部と根部の新鮮重を測定した。薬剤間の相互作用についてはColby法で、ベンスルフロンメチルの場合のみIsobole法を併用して評価した。これらにより、以下のような結果が得られた。1) スルホニルウレア系除草剤ベンスルフロンメチル、クロルスルフロンとジメピペレートとの混合処理では、拮抗的効果が示され、ジメピペレートとの混合による薬害軽減効果が認められた。2) オキシフルオルフェン、ピフェノックス、クロメフロップおよびピリブチガルブとジメピペレートとの混合処理でも各薬剤に基因する生育抑制に対しジメピペレートによる拮抗的効果が認められた。3) クロロアセトアミド系除草剤プレチラクロール単剤処理では、地上部より根部の方に抑制効果が強く認められたが、ジメピペレートとの混合処理では相加的効果が示され、生育抑制軽減効果は認められたかった。

著者

松本 宏 石塚 皓造

出版者

日本雑草学会

雑誌

雑草研究 (ISSN:0372798X)

巻号頁・発行日

vol.27, no.2, pp.91-97, 1982-08-26

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シメトリンの作用点と考えられる光合成系における選択作用性について検討することを目的とし,シメトリンに対して低抗性であるイネ(日本晴)と感受性であるタイヌビエから葉緑体を単離調整し,それらの電子伝達反応および光リン酸化反応における作用部位の検索,植物間における阻害度の比較を行なった。まず,電子伝達反応に対するシメトリンの作用について検討した。光化学系Iの末端から電子を受容するメチルビオローゲンを用い還元されたメチノレビオローゲンが酸素と結合して反床液中の酸素を消費する反応を利用して,酸素電極で種々の濃度のシメトリン存在下における酸素の消費速度を測定することにより,電子伝達系全体に対する作用を調べた。その結果,シメトリンは処理後ただちにかつ低濃度でこの反応を阻害することが判明し,用いたクロロフィル量(100〜120μg)でI_<50>値はイネで8×10^8M,タイヌビエで9×10^8Mであった(第1図)。つぎに,この電子伝達反床を光化学系IIの反応と光化学系Iの反応に分けて,それぞれに対するシメトリンの作用について検討した。光化学系IIに対する作用は,プラストキノン部位から電子を受容する酸化型のフェニレンジアミンを用いて,水の分解に伴う酸素の発生を酸素電極で測定することにより調べた。その結果,両植物のこの反応はシメトリンにより強い阻害をうけ,I_<50>値はともに5×10^8Mであった(第2図)。光化学系Iに対する作用は,光化学系IIからの電子の流れをDCMUで阻害した上で,アスコルビン酸で還元したDCIPを電子供与体,メチノレピオローゲンを受容体として,酸素電極で酸素消費速度を測定することにより調べた。その結果,この反応は10^4Mのシメトリンでもほとんど阻害をうけなかった(第1表)。また,NADPの光還元も同様にシメトリンの阻害をうけなかった(第2表)。光リン酸化反応に対するシメトリンの作用は,ADPからATPが生成される際にエステノレ化されて減少する反応液中の無機リンを比色法で定量することにより測定した。その結果,非環状光リン酸化反応がほぼ電子伝達反応と同程度の濃度で阻害された。環状光リン酸化反応も阻害されたが,非環状光リン酸化の阻害に比べるとやや弱いものであった(第3表)。これらの結果から,シメトリンの作用は光合成系における光化学系IIの反応と,光リン酸化反応の阻害であると考えられた。しかし,調べたすべての反応系において,イネとタイヌビエ間で葉緑体のジメトンに対する感応性に差ば認められなかった。したがって,両植物におけるシメトリンの作用力は,細胞内に形成される生理活性物質の濃度によって決定されるものと考えられ,選択作用性の要因としてはこれまで指摘してきたこれらの植物間の機能の差,すなわち,茎葉処理時においては茎葉からの吸収速度および茎葉内分解代謝能の差が,根部処理時においては根部内および茎葉内分解・代謝能の差と茎葉への移行速度の差があげられる。

著者

スワンウォン スィーソム 臼井 健二 石塚 皓造

出版者

日本雑草学会

雑誌

雑草研究 (ISSN:0372798X)

巻号頁・発行日

vol.34, no.4, pp.315-321, 1989-12-25

被引用文献数

3

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除草剤耐性機構の解明および耐性植物作出の検討を目的として,植物における分岐鎖アミノ酸生合成,芳香族アミノ酸生合成あるいはグルタミン合成酵素のような窒素代謝の掻乱活性が強いベンスルフロンメチル(BSM),グリホサ-ド(GLY),およびグルボシネ-ト(GLU)を用いて各々の耐性細胞をニンジン懸濁細胞より選抜した.ニンジン(Daucus carota L. cv. Harumakigosun)はこれらの除草剤に感受性である. ニンジンの胚軸より誘導した細胞をLS培地で懸濁培養した.この細胞の生育は10^<-8> M BSM,10^<-3> M GLYあるいは10^<-5> M GLU処理で著しく阻害された(Fig.1).それぞれ10^<-9> M,10^<-4> Mあるいは10^<-6> M処理では50%程度の阻害を示したが,これら除草剤を含む培地で数回継代培養すると無処理細胞と同程度の生育となった.その状態の細胞を更に,それぞれ,10^<-8> M,10^<-3> Mあるいは10^<-5> Mを含む培地に移し継代培養を続けることにより,耐畦細胞が選抜された(Fig. 3, 4, 6, 7).選抜された耐性細胞は上記濃度の除草剤を含む培地中で無処理細胞と同程度に生育した.耐性細胞の選抜に要した継代培養回数即ち期間は,GLYはBSMよりやや長いが3〜4ヵ月と比較的短かったが,GLUはほぽその倍の期間であった.このことは除草剤の物理化学性あるいは作用,耐畦機構と関連があると推察された.これら耐畦細胞は,ある期間上記濃度の除草剤中で培養した後,更に高濃度の10^<-7> M BSM,10^<-2> M GLYあるいは10^<-4> M GLU中に移しても生育可能であった(Fig. 2, 5, 8).また,除草剤を含まない培地に移しても耐畦は保持され(Fig.9),耐性適応は少なくとも一年間は安定であることが認められた.