メタル/High-k積層ゲートを用いたMOSFET高性能化に関する研究 - 文献詳細 - Ceek.jp Altmetrics

2 0 0 0 OA メタル/High-k積層ゲートを用いたMOSFET高性能化に関する研究

著者: 松木武雄
出版者: [出版者不明]
巻号頁・発行日: 2009-02

制度:新 ; 報告番号:乙2217号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2009/2/25 ; 早大学位記番号:新4979

2016-01-31 01:56:09
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http://hdl.handle.net/2065/34580

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