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文献詳細
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OA
半導体製造に用いられる超純水と機能水の最新動向
著者
矢野 大作
出版者
一般社団法人 表面技術協会
雑誌
表面技術
(
ISSN:09151869
)
巻号頁・発行日
vol.69, no.10, pp.425-429, 2018-10-01 (Released:2019-04-01)
参考文献数
9
言及状況
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変動(月別)
分布
外部データベース (DOI)
3
Mendeley
DOI Chronograph
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今後も半導体の需要増や微細‧多層化により、⼀層の⽔質の⾼度化や⽔量増が⾒込まれる様ですが、量も大事ですが排水の再利用も含む質が大事な様ですね
#1psemiconmemo 半導体製造で用いられる機能水の種類とその用途。 用途に応じて溶解させるガスの種類やpHを調整させているらしい。 出典: 半導体製造に用いられる超純水と機能水の最新動向 https://t.co/hXWzNiwz7t https://t.co/rlkgLgVnUg
( ..)φメモメモ 「半導体製造に用いられる超純水と機能水の最新動向」 https://t.co/hXWzNiNC9t
IT、IA・・・半導体はますます進化します。この製造を支えるのは超純水。分離技術の発展がますます必要です。例えば、「半導体製造に用いられる超純水と機能水の最新動向」 https://t.co/YGAnIKH8Ap 君も化学工学を学んで未来を作ってみないか? https://t.co/x56RS98UNg
収集済み URL リスト
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/69/10/69_425/_pdf/-char/ja
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