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ナノインプリント技術の現状と今後の展望
@jawayjaway @denkochan_plc @Johoshushupopo 酔っていてアホなツイートしてましたww 調べてみたらいろいろな欠陥要素があるんですね。 技術的な課題として,欠陥の抑制が必要となる.表 1 に示すように,主な欠陥としては,材料の充塡・離型時に発生するプロセス欠陥と,材料に起因する欠陥がある. https://t.co/qJCNzMw1WM
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半導体IPライセンスで普及したARMアーキテクチャ
#これは良い資料 な予感 「半導体 IP ライセンスで普及した ARM アーキテクチャ」2006年 ちょっと古い資料ですが、ARM社のIPビジネスのモデルを学ぶにはとっつきやすい
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電子励起を用いた原子分子操作
しばらく気づくのに時間がかかった… コラかと思いつつ検索したら…
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