- 著者
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佐藤 姚子
浅輪 和孝
- 出版者
- 一般社団法人日本森林学会
- 雑誌
- 日本林學會誌 (ISSN:0021485X)
- 巻号頁・発行日
- vol.77, no.3, pp.220-223, 1995-05-01
- 参考文献数
- 11
- 被引用文献数
-
3
シイタケの原木栽培において、ほだ木に処理した殺虫剤フェニトロチオンの子実体への吸収・残留について調査した。ほだ化したシイタケの原木を、フェニトロチオン50%乳剤希釈液に浸漬し、あるいは噴霧処理を行った。薬剤処理を行ったほだ木より発生したシイタケ子実体およびほだ木樹皮について、経時的にガスクロマトグラフィーによる残留分析を行った。その結果、薬剤処理区においては、いずれの試料からもフェニトロチオンが検出され、子実体による吸収が認められた。しかし、その検出量は薬剤処理方法により差がみられ、食品中の残留農薬に関する厚生省告示による、シイタケの基準値を試験期間中満たしたのは噴霧処理を行った区のみであった。また、ほだ木樹皮での検出値は子実体に比べ著しく高く、減衰は緩慢だった。