Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
  1. ホーム
  2. 文献詳細

1 0 0 0 IR 数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作

著者
佐野 泰久 山村 和也 遠藤 勝義 森 勇蔵 サノ ヤスヒサ ヤマムラ カズヤ エンドウ カツヨシ モリ ユウゾウ
出版者
大阪大学低温センター
雑誌
大阪大学低温センターだより (ISSN:03874419)
巻号頁・発行日
no.125, pp.11-15, 2004-01
研究ノート

言及状況

Twitter (1 users, 1 posts, 0 favorites)

数値制御プラズマCVMによる次世代超薄膜SOIウエハの製作 https://t.co/oUfzqwEnxq

収集済み URL リスト