著者

小町谷 吉興

出版者

Japan Society for Bioscience, Biotechnology, and Agrochemistry

雑誌

日本農芸化学会誌 (ISSN:00021407)

巻号頁・発行日

vol.35, no.6, pp.516-520, 1961

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(1) α位にカルボキシル基を持つインドール誘導体のカルポキシル基の離脱反応は強酸を触媒として行なうときは,従来行われてきた高温度で加熱脱炭酸せしめる方法より極めてかんたんであり,インドール酢酸及びトリプトファンの製造に好都合であること,殊にトリプトファンの製造に際して好結果を与えることを認めた.<br> (2) 脱炭酸を行なう触媒としては,塩酸,硫酸が最もすぐれ,燐酸,氷酢酸,強酸性イオン交換樹脂は殆んど脱炭酸の触媒にならない.<br> (3) 脱炭酸の開始する温度は原料物質により異なるが,大体80~95°であって5N~6Nの希塩酸と加熱還流する方法が一般的な方法といえる. 2N程度の希塩酸と加熱するときは脱炭酸に長時間を要し,不必要な分解がおこるので好ましくない.