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界面マイクロパターンを用いたHOMO-90°TN双安定に関する研究
著者
柏木 竜希
都甲 康夫
木村 宗弘
赤羽 正志
出版者
一般社団法人 日本液晶学会
雑誌
日本液晶学会討論会講演予稿集
(
ISSN:18803490
)
巻号頁・発行日
vol.2011, pp.103, 2011
画像のメモリー効果や低消費電力化が期待できる双安定液晶素子が注目されている。そこで配向処理方法として以前から用いられているラビング法と光配向法を用い、配向膜表面に互いに直交する配向容易軸を形成する界面マイクロパターンによる双安定性を検討する。本研究では、界面マイクロパターンを用いた、ホモジニアス・90°TN双安定モデルを作製しスイッチングを試みた。
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
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収集済み URL リスト
https://ci.nii.ac.jp/naid/130004590469
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