著者

松本 祐司

出版者

公益社団法人 日本表面科学会

雑誌

表面科学学術講演会要旨集

巻号頁・発行日

vol.36, 2016

---

当研究室オリジナルのPLD-電気化学システムを用いて,NbドープSrTiO3(001)基板上に膜厚の異なるアナターゼTiO2(001)薄膜を作製し,その電気化学特性について,大気暴露せず,Ar雰囲気下,1MのHClO4電解質中で評価を行なった。その結果,成長膜厚の増大とともに,(001)面特有の(1x4)の表面再構成が発達し,フラットバンド電位が,およそ+0.5Vシフトすることを見いだした。