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レーザーCVD法によるY-Si-O系酸化物膜の合成と微細構造
著者
木村 禎一
遠藤 淳
後藤 孝
出版者
公益社団法人 日本セラミックス協会
雑誌
日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
巻号頁・発行日
vol.2007, pp.57, 2007
ケイ酸イットリウムは、優れた化学的安定性を持つ酸化物で、耐食、耐熱コーティングとして期待される。本研究では、レーザーCVD法により、イットリアー二酸化ケイ素系複酸化物膜の合成を試みた。Y/Si比や合成圧力・合成温度などを変化させて、原料ガス組成と生成相の関係について調べた。
言及状況
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こんな論文どうですか? レーザーCVD法によるY-Si-O系酸化物膜の合成と微細構造(木村 禎一ほか),2007 https://t.co/k4eT9MiIXf
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https://ci.nii.ac.jp/naid/130006972969
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