Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
文献ランキング
合計
1ヶ月間
1週間
1日間
文献カレンダー
新着文献
すべて
2 Users
5 Users
10 Users
新着投稿
Yahoo!知恵袋
レファレンス協同データベース
教えて!goo
はてなブックマーク
OKWave
Twitter
Wikipedia
検索
ウェブ検索
ニュース検索
ホーム
文献詳細
4
0
0
0
終わりなき良さの探究を前提とした、デザインモデルの開発
著者
小田 裕和
西村 歩
安斎 勇樹
雑誌
日本デザイン学会第70回研究発表大会
巻号頁・発行日
2023-06-14
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
Twitter
(4 users, 4 posts, 3 favorites)
小田裕和、西村歩、安斎勇樹 終わりなき良さの探究を前提とした、デザインモデルの開発−デュアルサイクルモデルの提案− https://t.co/dIA9jJ8Mip
収集済み URL リスト
https://confit.atlas.jp/guide/event/jssd70/subject/7B-01/advanced
(4)