著者

井上 耕治

出版者

京都大学

雑誌

若手研究(B)

巻号頁・発行日

2008

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レーザー3次元アトムプローブを用いて、MOS構造におけるドーパントの3次元空間分布やhigh-kゲート酸化膜構造について調べた。MOS構造やhigh-kゲート酸化膜構造の3次元アトムマップを得ることができた。ドーパントの種類による違い(ドーパントの偏析の有無やゲート酸化膜への侵入の有無)について明らかにした。high-kゲート酸化膜構造については傾斜構造を得ることができたが、今後詳細について検討していく。

著者

井上 耕治 永井 康介 佐々木 譲 大窪 秀明 唐 政 長谷川 雅幸

出版者

一般社団法人日本物理学会

雑誌

日本物理学会講演概要集 (ISSN:13428349)

巻号頁・発行日

vol.58, no.2, 2003-08-15