著者

多々見 純一

出版者

横浜国立大学

雑誌

若手研究(A)

巻号頁・発行日

2009

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走査型プローブ顕微鏡に付設可能な小型試験機を開発した。安定破壊を目的として、片側シェブロンノッチ試験片を用いた。Si_3N_4セラミックスでは、き裂は連続的に進展するとは限らず、先端あるいはき裂近傍にマイクロクラックを生成しながら、それらが連結して不連続に進展していくことが観察された。また、磁歪材料であるTerfenol-Dでは、き裂の進展に伴いき裂近傍の磁区構造が変化していく様子が確認された。