著者

青木 小三郎

出版者

一般社団法人 日本真空学会

雑誌

真空工業 (ISSN:18837174)

巻号頁・発行日

vol.3, no.10, pp.317-320, 1956 (Released:2009-09-29)

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薄膜理論の追及と真空技術の発達と相伴つて真空応用の光学は十数年間に異常な進歩を遂げた。真空蒸着の特徴は他の方法では不可能である各種の物質の極めて薄い等厚膜を作り得ることである。此薄膜は強く安価でなければ実用価値は低減するので、今日迄非常な苦辛と努力を払い一応成功の域に達した。今後一層苦難に耐え此事業を発展させたい。