著者

中嶋 省志 SADR Alireza 田上 順次

出版者

特定非営利活動法人 日本歯科保存学会

雑誌

日本歯科保存学雑誌 (ISSN:03872343)

巻号頁・発行日

vol.57, no.2, pp.111-120, 2014 (Released:2014-05-07)

参考文献数

24

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過去, エナメル質の溶解現象を説明するうえで臨界pHという考え方が強調され, そのためpHにのみに多くの関心が払われてきた. しかし, この溶解現象がpHにだけ依存するものではないことは, 以前から知られている. 本稿ではまず臨界pHについて, 過去の文献を引用してその歴史を簡単に振り返る. そのなかで, 臨界pHはエナメル質に固有の特性ではなく, 酸性液に含まれるCa2+とリン酸イオンの濃度に依存して決定され, 「一定の値をとらないこと」を述べる. この考え方は, すでに1950年代にみられる. この臨界pHが今日話題となっている酸蝕とも関連することから, そのことについても言及する. 一方, 臨界pHを決定する要因には, 前述のCa2+とリン酸イオンの濃度以外にも, エナメル質の熱力学的溶解度 (酸溶解性の指標) がある. この指標の程度はエナメル質によってかなり異なり, この違いが臨界pHに大きな影響を与えることを解説する. 具体的には, 飽和度という概念を基に臨界pHに及ぼすCa2+とリン酸イオンの濃度の影響を計算し, 臨界pHの値を推定した. すなわち, プラーク液にて検出される平均的なCa2+とリン酸イオン濃度を用い, そこで酸が産生されpHが低下したとして, 臨界pHを計算した. その結果, この場合の臨界pHは5.15であった. 同様にエナメル質の酸溶解性の違いから, 最も溶けにくいエナメル質の場合の臨界pHは5.02, 最も溶けやすい場合は5.81となり, 大きな違いが認められた.

著者

INOUE Go NIKAIDO Toru SADR Alireza TAGAMI Junji

出版者

日本歯科理工学会

雑誌

Dental materials journal (ISSN:02874547)

巻号頁・発行日

vol.31, no.2, pp.232-238, 2012-03-01

参考文献数

27

被引用文献数

1 9

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This study investigated the influence of the composition of self-etching primer adhesive systems on the morphology of acid-base resistant zones (ABRZs). One-step self-etching primer systems (Clearfil Tri-S Bond, G-Bond, and One-Up Bond F Plus) and two-step self-etching primer systems (Clearfil SE Bond, Clearfil Protect Bond, UniFil Bond, and Mac Bond II) were used in this study. Each adhesive was applied on prepared dentin disk surfaces, and a resin composite was placed between two dentin disks. All resin-bonded specimens were subjected to acid-base challenge. Observation under a scanning electron microscope (SEM) revealed the creation of an ABRZ adjacent to the hybrid layer for all the self-etch primer adhesive systems, even when non-fluoride releasing adhesives were used. The presence of fluoride in two-step self-etching adhesive significantly increased the thickness of ABRZ created. Results suggested that an ABRZ was created with the use of self-etching primer adhesive systems, but its morphology differed between one-and two-step self-etching primer adhesive systems and was influenced by fluoride release activity.