著者

渡 正博 尾崎 幸洋

出版者

公益社団法人 日本分析化学会

雑誌

分析化学 = Japan analyst (ISSN:05251931)

巻号頁・発行日

vol.59, no.5, pp.379-397, 2010-05-05

参考文献数

81

被引用文献数

1 1

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近赤外分光法を用いたプロセス分析では,様々な外乱に対し影響が少なく予測値に長期間の連続性がある検量線が要求される.更にコストと作業軽減のために少量のサンプルとデータを使って確度の良い検量線を開発する必要がある.本論文では,このような問題を解決するためにポリマープロセスを例としてプロセス用の検量線作成法,移植法,実用的な検量線補正法等を検討した結果について報告する.著者らが開発した近赤外オンライン分光分析システムを使用し,外乱の影響と補償方法について具体的に検討した.直鎖状低密度ポリエチレンの密度測定を行い長期間のプロセスオンラインモニターが可能なことを示した.又ポリプロピレンのエチレン含量,エチレン酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニル量を例に選び,近赤外スペクトル解析方法と検量線作成について新しい提案を行った.更に定期点検前後で検量線予測値に差が出ても補正可能で,実用的な検量線補正方法を提案し実効性を確認した.