- 著者
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島 研介
酒井 哲弥
和田 朗
山内 良三
- 出版者
- 一般社団法人電子情報通信学会
- 雑誌
- 電子情報通信学会技術研究報告. OPE, 光エレクトロニクス
- 巻号頁・発行日
- vol.98, no.472, pp.13-18, 1998-12-15
- 被引用文献数
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長周期ファイバグレーティングにおいて, グレーティング中の任意の位置に任意の位相シフトを導入した位相シフト型長周期ファイバグレーティングの損失波長依存性について理論的に検討を行なった.続いてグレーティング中の一箇所においてグレーティングの間隔を変化させる方法で位相シフト型長周期ファイバグレーティングを試作し, その損失波長依存性について実験的にも確認した.位相シフト型長周期ファイバグレーティングをエルビウムドープファイバ増幅器の利得等化器に応用し, 単一の部品で波長24nmの広帯域において利得平坦度0.2dB以下を実現した.