Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
文献ランキング
合計
1ヶ月間
1週間
1日間
文献カレンダー
新着文献
すべて
2 Users
5 Users
10 Users
新着投稿
Yahoo!知恵袋
レファレンス協同データベース
教えて!goo
はてなブックマーク
OKWave
Twitter
Wikipedia
検索
ウェブ検索
ニュース検索
ホーム
文献詳細
1
0
0
0
YIG薄膜を用いた静磁波遅延線に関する一考察
著者
大久保 賢祐
ヴィシュヌ プリエ
堤 誠
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会論文誌. C-1, エレクトロニクス 1-光・波動
(
ISSN:09151893
)
巻号頁・発行日
vol.79, no.1, pp.34-35, 1996-01-25
被引用文献数
4
イットリウム・鉄・ガーネット薄膜上にマイクロストリップ線路で入出力端子を構成する新しいタイプの静磁前進体積波遅延線を提案する. 厚さ100μm,長さ17mmの薄膜を用いて遅延線を試作したところ, 2.94GHzで0.8μs以上の遅延特性が挿入損21dB, 伝搬損34dB/μsの低損失で観測された.
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
Twitter
(1 users, 1 posts, 0 favorites)
こんな論文どうですか? YIG薄膜を用いた静磁波遅延線に関する一考察<レター>(大久保 賢祐ほか),1996 http://t.co/LAoRoPcOCJ
収集済み URL リスト
https://ci.nii.ac.jp/naid/110003307657
(1)