65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般) - 文献詳細 - Ceek.jp Altmetrics

1 0 0 0 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

著者: 小谷敏也井上壮一
出版者: 一般社団法人電子情報通信学会
雑誌: 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
巻号頁・発行日: vol.104, no.323, pp.33-34, 2004-09-20
参考文献数: 6

2013-06-17 19:15:07
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https://ci.nii.ac.jp/naid/110003309274

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