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1 0 0 0 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

著者
小谷 敏也 井上 壮一
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
巻号頁・発行日
vol.104, no.323, pp.33-34, 2004-09-20
参考文献数
6