著者
岡本 恵介 小泉 圭輔 廣島 佑 渡辺 重佳
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会技術研究報告. ICD, 集積回路 (ISSN:09135685)
巻号頁・発行日
vol.107, no.511, pp.81-86, 2008-02-29

3次元型トランジスタを用いたシステムLSI設計法、特に素子領域のパターン面積の縮小効果について検討した(検討したモチーフはNAND,NOR等の基本回路とテーパ型バッファ回路)。この検討により、FinFETを用いることでパターン面積が大幅に削減できる可能性が有ることがわかった。そこで、CMOSセルライブラリヘ"平面型+FinFET型"方式を適用し、側壁チャネル幅を最適化することにより、動作速度、消費電力等の性能を犠牲にする事無くシステムLSIの素子領域のパターン面積を従来の平面型の場合の約40%に縮小できることを示した。今後設計上の幾つかの検討項目を解決することにより、"平面型+FinFET型"方式は将来のシステムLSI実現の有力な候補になる。

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"3次元型トランジスタFinFETによるLSIの高密度設計法 : CMOSセルライブラリを用いたパターン面積の縮小効果の検討(システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI) http://ci.nii.ac.jp/naid/110006885221 " 読めやカス

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