- 著者
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高木 雄也
高見 佳生
篠原 正典
松田 正信
藤山 寛
- 出版者
- 電気・情報関係学会九州支部連合大会委員会
- 雑誌
- 電気関係学会九州支部連合大会講演論文集
- 巻号頁・発行日
- vol.2012, pp.501, 2012
炭素で構成されるアモルファス状の膜は,化学的・機械的に安定であり,低温で成膜可能であり,さらにこの膜の表面を修飾することにより,新たな性質を付加できることから,ますますその用途は拡大している。現在では,これまで以上に,原子レベルで制御して,成膜および表面処理を行う必要が生じている。これまでメタン(CH4)を原料として用いた場合の成膜過程や表面反応過程を調べてきた。今回,エチレン(C2H4)を原料として用いた場合,成膜速度の飛躍的な上昇や膜質の変化を確認することが出来た。また,成膜過程および膜表面での反応過程について,多重内部反射赤外吸収分光法を用いて詳細にしらべたので,報告する。