Ceek.jp Altmetrics (α ver.)
  1. ホーム
  2. 文献詳細

1 0 0 0 OA A面n型4H-SiC エピタキシャル層中の基底面転位の電子線励起による拡張の観察

著者
須藤 正喜 姚 永昭 菅原 義弘 石川 由加里 加藤 正史
出版者
応用物理学会
雑誌
2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会
巻号頁・発行日
2016-07-22

言及状況

Twitter (1 users, 1 posts, 0 favorites)

【宣伝】今月開催される応物学会における、私の関連発表紹介その４。JFCCのグループとの共同研究です。／2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会 /A面n型4H-SiC エピタキシャル層中の基底面転位の電子線励起による拡張の観察 https://t.co/eWKA9G8Ln7

収集済み URL リスト