著者

金 基孫 作花 済夫 幸塚 広光 横尾 俊信

出版者

公益社団法人日本セラミックス協会

雑誌

日本セラミックス協会学術論文誌 : Nippon Seramikkusu Kyokai gakujutsu ronbunshi (ISSN:18821022)

巻号頁・発行日

vol.100, no.1162, pp.841-846, 1992-06-01

被引用文献数

5

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Using oxide glasses of compositions xNa_2O・(100-x) SiO_2(x=20-50 in mol) and 40Na_2O・(60-y)SiO_2・yAl_2O_3(y=5, 10 in mol) as base glass, Na-Si-O-N and Na-Al-Si-O-N oxynitride glasses were prepared by melting powder mixture of oxide glass and Si_3N_4 or AlN, and the effects of the base oxide glass composition on the glass forming ability, the amount of incorporated nitrogen and the chemical durability of oxynitride glasses were studied. It was found in Na-Si-O-N glasses that the lower Na_2O content is favorable for the formation of nitrided glass, giving larger glass forming regions. Retained nitrogen content decreased with increasing Na_2O content in Na-Si-O-N glasses and with increasing Al_2O_3 content in Na-Al-Si-O-N glasses. Chemical durabilily of Na-Si-O-N glass in-creased with increasing of nitrogen content for any Na_2O content of the base glass. For Na-Al-Si-O-N system, however, nitrogen incorporation increased or decreased chemical durability, depending on the Al_2O_3 content and nitrogen content in the glasses or had no appreciable effect.

著者

幸塚 広光

出版者

関西大学

雑誌

萌芽研究

巻号頁・発行日

2003

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自然骨に近いヤング率と曲げ強度をもつ材料の実現を目指し、アセチルセルロース(AC)/シリカ複合体をゾルーゲル法によって作製した。Si(OCH_3)_4(TMOS)-AC-H_2O-HNO_3-THF-CH_3OC_2H_4OH溶液をゲル化させ、30-70℃の種々の温度で乾燥させ、複合体を得た。モノマー換算のモル比AC/TMOS=0.5及び1.0の溶液から作製した複合体においては、ACに富むマトリックス中にミクロンオーダーのシリカリッチの粒子が分散していることがわかった。一方、モル比AC/TMOS=2.0の溶液から作製した複合体では、ACリッチマトリックスとシリカリッチ粒子の界面が明瞭でなかった。AC/TMOS比にかかわらず、複合体はマシナビリティーを示し、電気ノコギリによって5mm×2mm×4.4mmの直方体の試片に成形することができた。成形した試片を用いて3点曲げ試験によって力学的性質を評価したところ、出発溶液中のAC/TMOS比の増加とともに塑性変形の程度と破断歪みは増大し、ヤング率と曲げ強度は減少した。ゲルを乾燥させる温度を高くするとヤング率と曲げ強度は増大した。AC/TMOS比と乾燥温度を変化させることによって、ヤング率1.8-3.9GPa、曲げ強度48-100MPaの複合体を作製することができた。