著者
立木 実 森田 英一 山田 健二 方 暁東 小林 猛
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会技術研究報告. SCE, 超伝導エレクトロニクス
巻号頁・発行日
vol.96, no.333, pp.25-30, 1996-10-30

Pulsed Laser Deposition(PLD)法に特有の, 液滴状粒子を排除するのに大変有効である一方, 活性成長種が基板に到達しにくい, 低圧での薄膜堆積速度が小さいという, 従来のエクリプスPLD法の弱点を克服することを目的として, 複数のリング状により遮蔽マスクが構成されるエクリプス・エンジェルPLD法を新たに提案し, シミュレーシヨン及び実験の両面から特性を評価した. その結果, YBa_2Cu_3O_xの成膜において雰囲気酸素圧0.1Torr以下の低圧域での堆積速度が向上し, フレーミングストリークカメラによるプルーム像の高速観察の結果, マスク構造の中心部を通ってくる発光粒子群が基板に到達できることを確認した.