- 著者
-
斎藤 拓
- 出版者
- 東京農工大学
- 雑誌
- 基盤研究(B)
- 巻号頁・発行日
- 2008
高分子フィルムの超臨界流体下における応力測定を可能にさせ、二酸化炭素圧力が高くなりフィルムへの含浸量が増加するのに伴い応力や弾性率が低下して延伸しやすくなることを定量的に明らかにした。ポリプロピレンを二酸化炭素雰囲気下の低温で熱延伸するとサイズが数十nmの微細なナノ空孔が形成され、超臨界二酸化炭素雰囲気下の高温で熱延伸すると結晶化度を著しく増大することを見出し、それらの高次構造形成メカニズムに関して小角X線散乱測定の解析結果などに基づいて明らかにした。このような結晶高次構造制御により多様な物性を有する材料が得られた。