著者

織田 博則 佐藤 昌子 堂ノ脇 靖己 杉山 章

出版者

大阪教育大学

雑誌

基盤研究(C)

巻号頁・発行日

2008

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一重項酸素脱活性基を有する紫外線カット剤を合成し、紫外線カット挙動と染色布の耐光性改善効果を検討した。新規合成化合物は、有害紫外線A波、B波さらにはC波を吸収するだけでなく、優れた染色物の耐光性改善効果を有していた。また、ベンゾフェノン・ベンゾトリアゾール縮合型紫外線カット材料を合成し、紫外線防護機能性と耐光性改善効果を検討した。新規化合物は、非常に高い紫外線防護係数(UPF)と、優れた染色物の耐光性改善効果を有していた。