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ダブルパルスエキシマレ-ザ-照射によるSiへの拡散層高速形成コンピュ-タシミュレ-ションによる解析
著者
十文字 正之
杉岡 幸次
高井 裕司
出版者
理化学研究所
雑誌
レ-ザ-科学研究
(
ISSN:02898411
)
巻号頁・発行日
no.19, pp.61-63, 1997-09
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
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CiNii 論文 - ダブルパルスエキシマレ-ザ-照射によるSiへの拡散層高速形成コンピュ-タシミュレ-ションによる解析 http://t.co/RJZi8k1g #CiNii
収集済み URL リスト
https://ci.nii.ac.jp/naid/40004513726
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