著者

小野 幸子 阿相 英孝 杉井 康彦 安川 雪子

出版者

工学院大学

雑誌

基盤研究(A)

巻号頁・発行日

2008

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シリコンを始めとする半導体基板, GaAsに代表される化合物半導体基板,さらにアルミニウム,チタンなどの軽金属基板上に,既存のフォトリソグラフィー技術を用いずに,物質固有の自己組織化能を最大限に活かした湿式プロセスで,規則性を持つナノ・マイクロ構造体を容易かつ高精度に作製するプロセスを開発した。