著者
小野 幸子 阿相 英孝 杉井 康彦 安川 雪子
出版者
工学院大学
雑誌
基盤研究(A)
巻号頁・発行日
2008

シリコンを始めとする半導体基板, GaAsに代表される化合物半導体基板,さらにアルミニウム,チタンなどの軽金属基板上に,既存のフォトリソグラフィー技術を用いずに,物質固有の自己組織化能を最大限に活かした湿式プロセスで,規則性を持つナノ・マイクロ構造体を容易かつ高精度に作製するプロセスを開発した。