著者

後藤 丹十郎 高谷 憲之 吉岡 直子 吉田 裕一 景山 詳弘 小西 国義

出版者

園藝學會

雑誌

園芸学会雑誌 (ISSN:00137626)

巻号頁・発行日

vol.70, no.6, pp.760-766, 2001-11-15

参考文献数

19

被引用文献数

5 5

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根域制限によって生じるキクの生育抑制が, 養水分ストレスの軽減によってどの程度まで解消できるかを明らかにするため, 連続給液式の水耕法と1日の給液頻度を異にした点滴灌水式の培地耕を用いて根域制限と養水分ストレスに対する品種'ピンキー'の反応を調査した.連続給液水耕では, 茎長, 節数は定植25日後においても根域容量(10∿1000ml)による差が生じなかったが, 葉面積, 地上部・地下部乾物重は根域容量が小さいほど抑制された.最も抑制程度が大きかった葉面積には定植10日後から影響が認められ, 定植25日後には根域容量10mlで根域容量1000mlの約70%となった.S/R比は根域容量の減少に伴って大きくなったが, その差は比較的小さかった.点滴給液した培地耕において, 根域容量30mlで給液頻度が少ない場合には, 定植14日後から茎長に差が認められたが, 8回では28日後においてもほとんど差が認められなかった.根域容量が小さいほど定植35日後の地上部の生育は劣ったが, 根域容量30および100mlでは給液頻度が8回以上の場合, 1および3回と比較して抑制程度はかなり小さくなった.地下部乾物重は給液頻度に関わらず根域容量が大きくなるほど重くなった.S/R比は給液頻度1回および3回では根域容量による影響がみられずほぼ一定であったが, 8回および13回では根域容量が小さくなるほど大きくなった.以上のように, 養水分を十分に与えることによってキクの生育抑制を軽減することができたことから, 根域制限による植物体の生育抑制の最大の要因は, 養水分ストレス, 特に水ストレスであると推察された.100ml以下の根域容量で栽培されるキクのセル苗や鉢育苗においては, 養水分供給頻度を高めることによって, 養水分ストレスが回避され, 生長が促進されると考えられる.

著者

景山 詳弘 小西 国義

出版者

園藝學會

雑誌

園芸学会雑誌 (ISSN:00137626)

巻号頁・発行日

vol.64, no.4, pp.905-911, 1996-03-15

被引用文献数

5 2

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切り花ギクの養液栽培法を確立する目的で, 輪ギクタイプの'秀芳の力'を用いて, 窒素施肥基準曲線による培養液管理法を試みた.<BR>1.本実験に用いた窒素施肥基準曲線は, 以前の研究の結果から作成したものであり, 窒素吸収曲線を基礎として, 生体重の増加速度に基づいた生長曲線との関連から, 栄養生長を抑えるように修正したものである (第1図).<BR>2.窒素施肥基準曲線に沿って1週間毎に窒素を施肥した区を1.0倍区とし, この区の施肥量の0.8倍量および0.6倍量を施肥する区を設けた. また, 1週間毎に培養液の窒素濃度を修正して100ppmに維持する区も設けた. いずれの区も窒素以外の肥料要素は別に施肥し, それぞれ不足しないような濃度に保った.<BR>3.'秀芳の力'を7月4日に挿し芽し, 湛液式の水耕装置に植え付け2本仕立てとして栽培し, 11月9日に収穫した. 栽培はビニルハウス内で行い, 日最低気温16°C以上とした.<BR>4.キクは1.0倍区と0.8倍区で正常に生育開花し,商品価値のある切り花となった. 0.6倍区では生育が悪く貧弱な切り花となった. 100ppm維持区では, 栄養生長がおう盛になりすぎ, 花と葉のバランスが悪くなって, 切り花品質が低下した.<BR>5.窒素施肥基準曲線に基づいて施肥した3区では,窒素はそれぞれの施肥直後の2~3日以内ですべて吸収されたので, この方法は一種の窒素供給制限法である. また, 100ppm維持区の総窒素吸収量は, 1.0倍区の総吸収量の1.41倍であった.<BR>6.この施肥曲線に沿って施肥していく場合, 窒素施肥量を100とした窒素以外の多量要素の施肥量の割合はP=10~15, K=100~120, Ca=35~40, Mg=8~10が適当である.<BR>特許出願この論文の一部は「切り花ギクの養液栽培方法」として巴バルブ株式会社 (大阪府) から平成5年12月18日に特許出願されている.