著者
小塚 裕介
出版者
東京大学
雑誌
研究活動スタート支援
巻号頁・発行日
2010

本研究の目的は電気抵抗を測定することで、酸化亜鉛における二次元電子の金属状態から絶縁体状態への転移を観測することである。極低温中において酸化亜鉛二次元電子に強磁場を印加することで、電気抵抗が急激に増大し、金属絶縁体転移が観測された。しかしながら、この抵抗増大の前後でキャリア濃度を反映するホール抵抗に異常は見られず、量子ホール絶縁体と呼ばれる、高移動度の低キャリア濃度系に特徴的な状態が実現されていることが明らかとなった

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こんな研究ありました:高移動度酸化亜鉛二次元界面における強相関希薄電子系の金属絶縁体転移(小塚 裕介) http://kaken.nii.ac.jp/ja/p/22840004
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