文献一覧: The Surface Finishing Society of Japan (出版者)

2 0 0 0 Znめっき用3価クロムクロメート

著者: 長谷川史
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.53, no.6, pp.376-379, 2002-06-01
参考文献数: 12
被引用文献数: 8

2016-09-30 02:00:05
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2 0 0 0 エアレス・ホットスプレー・ペインティング裝置について

著者: 大谷信一
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 金属表面技術現場パンフレット (ISSN:03685527)
巻号頁・発行日: vol.5, no.7, pp.2-4, 1958

2016-09-16 03:56:08
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2 0 0 0 超音波洗浄技術とモノづくり

著者: 副島潤一郎
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 = The journal of the Surface Finishing Society of Japan (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.60, no.2, pp.95-97, 2009-02-01
参考文献数: 6
被引用文献数: 5

2012-11-23 21:52:46
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1 0 0 0 OA 宇宙環境における固体潤滑薄膜のトライボ特性

著者: 西村允
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.51, no.2, pp.181-185, 2000-02-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 10
被引用文献数: 4 2

2024-01-11 22:07:23
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1 0 0 0 OA ITOターゲットのノジュール生成機構

著者: 高橋誠一郎久保田高史
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.50, no.9, pp.776-781, 1999-09-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 10

2023-10-26 08:41:05
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1 0 0 0 OA 半導体・液晶工場における排水回収再利用技術

著者: 桐生草平
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.46, no.2, pp.138-143, 1995-02-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 2
被引用文献数: 2 2

2023-10-22 21:41:44
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1 0 0 0 OA 氷の空気搬送法による高密度熱輸送

著者: 梁取美智雄岩淵邦彦
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.46, no.2, pp.149-153, 1995-02-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 5

2023-10-11 19:04:31
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1 0 0 0 OA 無電解めっきによる鉛皮膜の形成

著者: 千田厚生中川卓二高野良比古笠次徹
出版者: The Surface Finishing Society of Japan
雑誌: 表面技術 (ISSN:09151869)
巻号頁・発行日: vol.43, no.4, pp.324-329, 1992-04-01 (Released:2009-10-30)
参考文献数: 6
被引用文献数: 5 9

The autocatalytic chemical deposition of lead has been achieved using titanium trichloride as the reducing agent. Lead film was deposited onto the non-conductive substrate to the intended thickness at a rate of 520Å/min. The optimum bath composition was; lead chloride 0.04M, trisodium citrate 0.20∼0.40M, disodium EDTA 0.08∼0.16M, NTA 0.20M, and titanium trichloride 0.03∼0.05M. The pH was 9.0 (adjusted with ammonia) and the temperature 60°C. Measurements of UV and visible absorption spectra revealed that NTA, EDTA and citric acid mainly formed complex salts with Ti3+, Pb2+ and Ti4+ respectively. X-ray diffraction analysis showed that the crystal structure of the deposited film was not affected by bath composition and plating condition.