著者

佐藤 海二 前田 ギレルメ 橋詰 等 進士 忠彦

出版者

公益社団法人 精密工学会

雑誌

精密工学会学術講演会講演論文集

巻号頁・発行日

vol.2005, pp.698-698, 2005

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本論文は,コンパクトナノ加工機用に開発した超精密XY位置決めテーブルシステムの制御性能向上を目的に行ったコントローラの改良とその有効性について述べている.使用するアクチュエータは4個,目標値は位置,姿勢のみとし,外乱抑制特性の向上,行過ぎ量の抑制のためにXYθ3方向のコントローラを改良している.設計した制御系を用いて半径100nm,周期500Hz以下で円運動させたところ,軌跡誤差は11nm以下と良好な実験結果を示している.