著者
佐藤 海二 前田 ギレルメ 橋詰 等 進士 忠彦
出版者
公益社団法人 精密工学会
雑誌
精密工学会学術講演会講演論文集
巻号頁・発行日
vol.2005, pp.698-698, 2005

本論文は,コンパクトナノ加工機用に開発した超精密XY位置決めテーブルシステムの制御性能向上を目的に行ったコントローラの改良とその有効性について述べている.使用するアクチュエータは4個,目標値は位置,姿勢のみとし,外乱抑制特性の向上,行過ぎ量の抑制のためにXYθ3方向のコントローラを改良している.設計した制御系を用いて半径100nm,周期500Hz以下で円運動させたところ,軌跡誤差は11nm以下と良好な実験結果を示している.