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GaNエピ膜のTR-PL遅い減衰成分におけるSi濃度依存
著者
加藤 正史
浅田 貴斗
朱 帥
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
出版者
応用物理学会
雑誌
2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
巻号頁・発行日
2019-07-10
言及状況
変動(ピーク前後)
変動(月別)
分布
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2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会における加藤関連発表その1。自分で喋ります。スライド準備しないと…/GaNエピ膜のTR-PL遅い減衰成分におけるSi濃度依存 https://t.co/TqljzlZGzx
収集済み URL リスト
https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2019a/subject/18p-N302-1/detail
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