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文献一覧: 成田 哲生 (著者)
6件
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OA
GaN基板上GaNホモエピ層に対する過剰キャリアライフタイム評価
著者
(B)浅田 貴斗
市川 義人
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
加藤 正史
出版者
応用物理学会
雑誌
2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
巻号頁・発行日
2017-02-03
1
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GaNエピ膜のTR-PL遅い減衰成分におけるSi濃度依存
著者
加藤 正史
浅田 貴斗
朱 帥
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
出版者
応用物理学会
雑誌
2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
巻号頁・発行日
2019-07-10
1
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GaN基板上n型およびp型エピ層のキャリア再結合の比較
著者
(M1)朱 帥
浅田 貴斗
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
加藤 正史
出版者
応用物理学会
雑誌
2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
巻号頁・発行日
2018-07-10
1
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GaNホモエピ膜のTR-PL信号における遅い時定数成分に対する数値解析
著者
加藤 正史
浅田 貴斗
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
出版者
応用物理学会
雑誌
2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
巻号頁・発行日
2018-02-08
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GaN 基板上 GaN エピ層キャリア再結合の遅い減衰
著者
(M1)浅田 貴斗
伊藤 健治
冨田 一義
成田 哲生
加地 徹
加藤 正史
出版者
応用物理学会
雑誌
2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
巻号頁・発行日
2018-02-08
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硬X線光電子分光法によるp型GaNのドライエッチングダメージ評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
著者
菊田 大悟
成田 哲生
高橋 直子
片岡 恵太
木本 康司
上杉 勉
加地 徹
杉本 雅裕
出版者
一般社団法人電子情報通信学会
雑誌
電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料
(
ISSN:09135685
)
巻号頁・発行日
vol.110, no.272, pp.59-62, 2010-11-04
参考文献数
5
p型GaNのエッチングダメージについて深さ方向分布、特に表面のバンド曲がりについて硬X線光電子分光(HAX-PES)法を用いて評価した。光電子の取り出し角を変化させることで異なる深さからの光電子の情報を検出し、p型GaN表面付近のバンド曲がりを解析した。その結果、ドライエッチングを施したp型GaN表面には1〜2×10^<20>cm^<-3>のドナー性欠陥が導入され、ICPドライエッチング時のバイアスパワーを大きくすることで、結晶奥深く(5〜8nm)まで欠陥が入ることが示された。