- 著者
- 野本 豊和 八木 伸也 アーリップ クトゥルク 曽田 一雄 橋本 英二 谷口 雅樹
- 出版者
- 公益社団法人 日本表面科学会
- 雑誌
- 表面科学講演大会講演要旨集 第25回表面科学講演大会
- 巻号頁・発行日
- pp.118, 2005 (Released:2005-11-14)
Ar+スパッタ後、分子を吸着させる前の金属基板加熱温度を制御し、表面粗さを変化させた。任意の加熱温度での表面粗さを原子間力顕微鏡 (AFM)で測定し、90 Kにおける(CH3)2Sの吸着反応及び構造をX線光電子分光(XPS)及び吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)を用いて調べたところ、吸着種及び構造に基板表面粗さに依存した変化が得られた。
1 0 0 0 13aXF-9 Si(111)-7×7 表面からスパッタされた Si^+, Si^<2+> 収量に及ぼす微量残留酸素の効果(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
- 著者
- 佐久間 靖博 加藤 政彦 シンディ ニナド 八木 伸也 曽田 一雄
- 出版者
- 一般社団法人日本物理学会
- 雑誌
- 日本物理学会講演概要集 (ISSN:13428349)
- 巻号頁・発行日
- vol.59, no.2, 2004-08-25