著者

岩澤 英明 宮本 幸治 奥田 太一 吉田 良行 長谷 泉 木村 昭夫 生天目 博文 谷口 雅樹 相浦 義弘

出版者

一般社団法人 日本物理学会

雑誌

日本物理学会講演概要集 70.2 (ISSN:21890803)

巻号頁・発行日

pp.1742, 2015-09-16 (Released:2017-07-10)

著者

野本 豊和 八木 伸也 アーリップ クトゥルク 曽田 一雄 橋本 英二 谷口 雅樹

出版者

公益社団法人 日本表面科学会

雑誌

表面科学講演大会講演要旨集 第25回表面科学講演大会

巻号頁・発行日

pp.118, 2005 (Released:2005-11-14)

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Ar+スパッタ後、分子を吸着させる前の金属基板加熱温度を制御し、表面粗さを変化させた。任意の加熱温度での表面粗さを原子間力顕微鏡 (AFM)で測定し、90 Kにおける(CH3)2Sの吸着反応及び構造をX線光電子分光(XPS)及び吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)を用いて調べたところ、吸着種及び構造に基板表面粗さに依存した変化が得られた。

著者

谷口 雅樹

出版者

広島大学

雑誌

RIHE

巻号頁・発行日

vol.88, pp.1-2, 2006-10-16