著者

松井 真二 落合 幸徳 山下 浩

出版者

公益社団法人 応用物理学会

雑誌

応用物理 (ISSN:03698009)

巻号頁・発行日

vol.70, no.4, pp.411-417, 2001-04-10 (Released:2009-02-05)

参考文献数

49

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半導体集積回路に代表されるデバイス微細加工のキーテクノロジーである電子ビーム露光技術の最近の動向と将来展望について述べる.パターン描画機能をもっ電子ビーム露光技術は,現在の量産用リソグラフィー技術である光露光の高精度マスク描画,少量多品種システムLSI製造に不可欠の技術である.近年,波長制限によって,光露光技術が解像度限界に達しつつあり, 70nm 以降の次世代量産技術として,分割転写方式,マルチビーム方式などの高スループット電子ビーム露光技術が注目されており,それらの最新動向について解説する.

著者

松井 真二

出版者

公益社団法人 精密工学会

雑誌

精密工学会誌 (ISSN:09120289)

巻号頁・発行日

vol.76, no.2, pp.137-142, 2010-02-05 (Released:2010-08-05)

参考文献数

15

著者

森永 実 藤田 淳一 松井 真二 清水 富士夫

出版者

公益社団法人 応用物理学会

雑誌

応用物理 (ISSN:03698009)

巻号頁・発行日

vol.65, no.9, pp.912-918, 1996-09-10 (Released:2009-02-05)

参考文献数

11

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レーザー冷却法と微細加工技術の発展により原子をホログラフィックな手法で制御することが可能になった.任意の距離に任葱の像を酉生す一る原子線ホログラムのバイナリパターンの設計法について解説し,最近の原子線ホログラフィーの実験の紹介をする.また原子線ホログラフィーの将来の可能性についても検討する.