2 0 0 0 OA 市販DLPプロジェクターを用いた低コストマスクレス露光装置の検討
- 著者
- 馬場 岳斉 工藤 幸寛 高橋 泰樹
- 雑誌
- 2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 巻号頁・発行日
- 2015-07-17
- 著者
- 浅川 陽一 高橋 泰樹 齊藤 進
- 出版者
- 一般社団法人 日本液晶学会
- 雑誌
- 日本液晶学会討論会講演予稿集 (ISSN:18803490)
- 巻号頁・発行日
- vol.2007, pp.242, 2007
我々はこれまでに高分子安定化ベンド配向セルは、高分子安定化によって実効的な回転粘性係数の増加とレズリーの粘性係数の変化によるフローの減少が起こり、過渡応答特性の低速化が起こると報告した。我々の最近の研究から、高分子安定化スプレイ配向セルの過渡応答特性は、高分子安定化によって高速化することがわかった。本研究は、高分子安定化スプレイ配向セルの過渡応答特性の高速化メカニズムについて詳細な解析を行った。
1 0 0 0 UV硬化型液晶性モノマーの光重合を用いるベンド配向の安定化
- 著者
- 浅川 陽一 横田 孝次 七海 真 高塚 直樹 高橋 泰樹 齋藤 進
- 出版者
- 一般社団法人 日本液晶学会
- 雑誌
- 日本液晶学会討論会講演予稿集 (ISSN:18803490)
- 巻号頁・発行日
- vol.2005, pp.12, 2005
OCB形LCDでは、初期駆動時に臨界電圧以上の電圧印加により初期のスプレイ配向をベンド配向に遷移させることが必要である。本研究は、ベンド配向を高分子安定化法によって安定化し、前述のような電圧印加を不要にできる事を論理的と実験の両面から明らかにすることを目的とする。安定化処理時に印加する電圧の周波数を高く(100kHz)にすることによってベンド配向を完全に安定化できることがわかった。
1 0 0 0 高分子安定化πセルの過渡応答特性
- 著者
- 浅川 陽一 高塚 直樹 高橋 泰樹 齊藤 進
- 出版者
- 一般社団法人 日本液晶学会
- 雑誌
- 日本液晶学会討論会講演予稿集 (ISSN:18803490)
- 巻号頁・発行日
- vol.2006, pp.192, 2006
OCBモードは、高速応答と広視野角をもつモードとして注目されている。OCBモードは、初期駆動時にスプレイ配向からベンド配向に遷移させる初期遷移操作が必要な事と、駆動電圧にベンド配向を保持する電圧が必要であるという問題を抱えている。それらの問題を解決するための手法として、高分子安定化法が提案されている。本研究は、高分子安定化πセルの過渡応答特性について検討した。過渡応答速度は、ベンド配向において、高分子安定化の効果によって低下した。過渡応答速度は、UV照射エネルギーに依存することがわかった。
- 著者
- 小林 孝資 浅川 陽一 高橋 泰樹 齊藤 進
- 出版者
- 一般社団法人 日本液晶学会
- 雑誌
- 日本液晶学会討論会講演予稿集 (ISSN:18803490)
- 巻号頁・発行日
- vol.2008, pp.153, 2008
私たちの以前の論文において、液晶材料としてZLI-2293とUV硬化型モノマーとしてRMM-34が使われたベンド配向セルの立ち上がり、立ち下り共に過渡応答特性が高分子安定化によって低速化することを報告した。しかしながら、この報告書では高分子安定化によって液晶とUV硬化型モノマーであるZLI-4792とRMM-34をそれぞれ用いることで、立ち下がりの過渡応答時間が改善することができた。
Photolithography is used in various fields such as printed circuit board fabrication and semiconductor processes,and it is often adopted in science education classes. For student to make printed circuit boards which have varyingdesigns, in a classroom, efficient exposure time is required; however, this is difficult to achieve because of cost andtime limitations. In this research, we have developed mask-less exposure equipment for high quality printed boards at low costwith a short exposure time by using a commercially available DLP projector. Furthermore, this process is alsoapplicable regarding micro-patterns.